이 경우 환자의 치유능력이 좋고 thick biotype의 환자라면 동종골 및 이종골 합성골의 mix와 흡수성 차단막의 사용도 긍정적인 결과를 보일 수 있지만, 치유능력이 좋지 않고, thin biotype의 환자라면 자가골을 많이 채취해야 하며, 흡수가 빠른 자가골을 보완하기 위해 소량의 동종골 및 이종골 mix가 추천된다.
이때 동일 절개선 하에서 빠른 시간에 많은 양의 자가골을 채취할 수 있는 Auto Chip Maker(ACM)는 임상술식에 많은 편리함을 제공하였다. 또한, Load bearing 능력이 좋은 양질의 신생골을 GBR을 통해 만들어 내기 위해 CTi-mem은 개개의 임플란트 주변 골결손 부의 양상에 맞게 선택하여 실행할 수 있게 디자인 되어있다는 장점이 있다.
CTi-mem처럼 흡수성 차단막과는 비교할 수 없는 탁월한 공간유지력을 지녀 Superficial flap에 지속적인 장력을 제공하는 차단막은 부가적인 노력이 필요하다.
1. 인접한 좁은 치조제를 가급적 덮지 말고, GBR이 필요한 부위만을 선택적으로 덮어야 한다.
2. 인접한 자연치에서 1mm 이상 떨어져 있어야 하며, 1mm 이상의 Spacer를 사용한다.
3. Fixing screw나 cover screw로 CTi-mem은 고정이 되어야 한다.
4. 임플란트는 Submerge 시키는 것이 좋다.
5. Superficial flap에 가해지는 장력을 감소하기 위해 PRF, CTG, Colla tape, Resorbable collagen membrane 등으로 CTi-mem을 덮고 봉합하여야 한다.
6. 봉합은 Layered suture를 해야 하며, everted 되어야 한다.
7. Simple case부터 시작하라
8. 환자 소환은 3주간은 매주, 그 이후에는 1달에 한번 정도 하여 노출유무를 파악한다.
그럼에도 불구하고 비흡수성 차단막이나 CTi-mem도 약 30%에 이르는 노출을 경험하게 되는데, 조기 노출의 경우는
1. 대부분의 노출은 suture line부터 시작한다. 이때 다시 봉합하려 하지 말아라
2. 제거할 때까지 항생제 요법과 클로르헥시딘 가글로 2차 감염을 방지한다.
3. 매주 환자를 소환하여 5mm이하의 노출시는 - 8주후에 제거,
4. 5mm이상의 노출시 4주후 제거한다.
지연 노출의 경우는
1. 주로 thin biotype의 환자에게서 일어난다.
2. Crestal area 부근에서 노출시- 8주후에 제거
3. Buccal area 부근에서 노출시- 12주 후에 제거
4. 제거할 때까지 항생제 요법과 클로르헥시딘 가글로 2차 감염을 방지한다.
5. 매주 환자를 소환하여 체크한다.
술자의 필사적인 노력에도 불구하고 CTi-mem이 노출되었다면, 진인사대천명(盡人事待天命)이라 해도 과언이 아니다. 이런 상황에서 당황하여 성급하게 제거를 생각하기보다는 잠시 여유를 갖고 지켜보시기를 권해드린다. Let it be !
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